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高真空PECVD系統(tǒng)

	價(jià)格：元(人民幣)	產(chǎn)地：本地
	最少起訂量：1臺(tái)	發(fā)貨地：本地至全國(guó)
	上架時(shí)間：2020-09-10 13:16:02	瀏覽量：200
	鄭州諾泰科技有限公司
	經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)加工	公司類型：私營(yíng)有限責(zé)任公司
	所屬行業(yè)：熱處理設(shè)備	主要客戶：
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產(chǎn)品概述：
諾泰高真空PECVD系統(tǒng)是由管式爐，真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)等組成。系統(tǒng)主要應(yīng)用于金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復(fù)合薄膜，石墨烯等生長(zhǎng)。PECVD系統(tǒng)增加功能容易，可擴(kuò)展等離子清洗刻蝕等功能，PECVD系統(tǒng)薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高等優(yōu)點(diǎn)。

http://www.zzprotech.com/

高真空PECVD系統(tǒng)主要特點(diǎn)：

1.通過射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。

2.PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積所需的溫度更低。

3.可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小。

4.PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。

5.廣泛應(yīng)用于：各種薄膜的生長(zhǎng)，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。

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