| KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 鍍制氣體傳感器 WO3 薄膜 |
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價(jià)格：1 元(人民幣) | 產(chǎn)地：美國(guó) |
| 最少起訂量：1臺(tái) | 發(fā)貨地：本地至全國(guó) | |
| 上架時(shí)間：2021-01-22 14:33:52 | 瀏覽量：215 | |
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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某傳感器制造商為了制備出具有高結(jié)晶度、大比表面積、排列規(guī)則的納米結(jié)構(gòu) WO3 薄膜, 經(jīng)過(guò)對(duì)比選擇, 采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射沉積設(shè)備鍍制 WO3 薄膜.
KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):
氣體傳感器可以將被檢測(cè)氣體的種類(lèi)、濃度等信息轉(zhuǎn)變?yōu)榭蓽y(cè)信號(hào), 并將計(jì)算機(jī)與被檢測(cè)到的信號(hào)連接口相連接, 構(gòu)成自動(dòng)的監(jiān)控、檢測(cè)系統(tǒng). 氧化鎢薄膜可以吸附各種氣體, 從而導(dǎo)致薄膜的電阻或光學(xué)參數(shù)的變化, 常常應(yīng)用于氣體傳感器領(lǐng)域.
KRI 離子源的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.
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