| KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 成功用于復合磁控濺射沉積裝置 |
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價格：11 元(人民幣) | 產地：美國 |
| 最少起訂量：1臺 | 發(fā)貨地：本地至全國 | |
| 上架時間：2021-01-14 16:25:38 | 瀏覽量：150 | |
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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| 經營模式：代理商 | 公司類型：外商獨資 | |
| 所屬行業(yè)：真空泵 | 主要客戶： | |
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某 OEM 系統集成商在搭建系統-復合磁控濺射沉積裝置, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 作為濺射源.
KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:
該復合磁控濺射沉積裝置主要包含： 1. 濺射源-KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 2. 清洗源-KRI 霍爾離子源 eH3000 3. 高功率脈沖磁控濺射電源 4. 真空泵- Pfeiffer 分子泵 HiPace700 5. 基臺
KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.
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