| hakuto 離子刻蝕機(jī) 7.5IBE 用于氮化硅刻蝕工藝研究 |
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價(jià)格：11 元(人民幣) | 產(chǎn)地：日本 |
| 最少起訂量：1臺(tái) | 發(fā)貨地：本地至全國(guó) | |
| 上架時(shí)間：2020-12-22 16:03:11 | 瀏覽量：128 | |
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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| 經(jīng)營(yíng)模式：代理商 | 公司類型：外商獨(dú)資 | |
| 所屬行業(yè)：真空泵 | 主要客戶： | |
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重慶某研究所在在氮化硅刻蝕工藝研究中采用 hakuto 離子刻蝕機(jī) 7.5IBE.
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 7.5IBE 技術(shù)規(guī)格:
該 Hakuto 離子刻蝕機(jī) 7.5IBE 的核心構(gòu)件離子源是配伯東公司代理美國(guó)考夫曼博士創(chuàng)立的 KRI考夫曼公司的考夫曼離子源 KDC 75
伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC75 技術(shù)參數(shù)：
針對(duì)氮化硅刻蝕工藝中硅襯底刻蝕損失的問(wèn)題, 為了提高氮化硅對(duì)二氧化硅的刻蝕選擇比, 采用 CF4, CH3F和O2這3種混合氣體刻蝕氮化硅, 通過(guò)調(diào)整氣體流量比, 腔內(nèi)壓強(qiáng)及功率, 研究其對(duì)氮化硅刻蝕速率、二氧化硅刻蝕速率及氮化硅對(duì)二氧化硅選擇比等主要刻蝕參數(shù)的影響.
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