| Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 用于蝕刻 KDP 晶體 |
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價格：2000000 元(人民幣) | 產(chǎn)地：日本 |
| 最少起訂量：1臺 | 發(fā)貨地：本地至全國 | |
| 上架時間：2020-12-08 16:17:02 | 瀏覽量：125 | |
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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| 經(jīng)營模式：代理商 | 公司類型：外商獨(dú)資 | |
| 所屬行業(yè)：真空泵 | 主要客戶： | |
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| 聯(lián)系人:羅 (先生) | 手機(jī):15201951076 |
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| 郵箱:marketing@hakuto-vacuum.cn | 地址:上海市浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室 201206 |
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 用于蝕刻 KDP 晶體某廠商研發(fā)部門采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 用于蝕刻 KDP 晶體進(jìn)行拋光加工, 用以消除單點(diǎn)金剛石車削（SPDT）后 KDP 晶體表面留下的周期性小尺度波紋.
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 技術(shù)參數(shù)如下:
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 產(chǎn)品圖如上圖, 其主要構(gòu)件包括 Pfeiffer 分子泵, KRI 考夫曼離子源, 觸摸屏控制面板, 真空腔體, 樣品臺. 如下圖：
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 的核心構(gòu)件離子源采用的是伯東公司代理美國 考夫曼博士創(chuàng)立的 KRI考夫曼公司的射頻離子源 RFICP220.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 的樣品臺可以 0-90 度旋轉(zhuǎn), 實(shí)現(xiàn)樣品均勻地接受離子的轟擊, 進(jìn)而實(shí)現(xiàn)提高樣品的加工質(zhì)量.
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 配套的是伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700.
通過采用伯東 Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 刻蝕后, 單點(diǎn)金剛石車削后的表面由初始的6.54nm RMS, 經(jīng)過 1.76nm RMS 的平坦化層, 最終刻蝕轉(zhuǎn)移到 KDP 晶體表面得到 1.84nm RMS 的光滑表面.
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