| 伯東 KRI 考夫曼霍爾離子源 eH3000用于玻璃基片清洗 |
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價(jià)格:11 元(人民幣) | 產(chǎn)地:美國(guó) |
| 最少起訂量:1臺(tái) | 發(fā)貨地:本地至全國(guó) | |
| 上架時(shí)間:2020-11-16 13:16:10 | 瀏覽量:115 | |
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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| 經(jīng)營(yíng)模式:代理商 | 公司類型:外商獨(dú)資 | |
| 所屬行業(yè):真空泵 | 主要客戶: | |
在線咨詢 ![]() |
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| 聯(lián)系人:羅 (先生) | 手機(jī):15201951076 |
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無(wú)論是何種膜系結(jié)構(gòu), 玻璃基片表面的清潔程度和表面狀態(tài)將直接影響所鍍膜層的質(zhì)量, 如薄膜的附著力/ 粗糙度以及薄膜的物理性能與機(jī)械強(qiáng)度.
但在放置和傳輸過(guò)程中會(huì)對(duì)玻璃基片表面難以避免地出現(xiàn)不明污染物, 失去 "新鮮表面" 形成鈍化層, 甚至可視痕跡. 對(duì)于低輻射玻璃而言, 在瑕疵處生長(zhǎng)的銀膜會(huì)在后續(xù)鋼化及熱彎過(guò)程中形成團(tuán)聚, 導(dǎo)致透光性能與低輻射性能嚴(yán)重惡化, 鍍膜產(chǎn)品報(bào)廢,降低成品率.
因此, 國(guó)內(nèi)某玻璃制造商采用伯東 KRI 考夫曼霍爾離子源 eH3000 在玻璃基片傳輸后/ 鍍膜前進(jìn)行在線基片表面處理工序.
KRI 霍爾離子源 Gridless eH3000 技術(shù)參數(shù):
F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
該制造商采用 KRI 霍爾離子源 Gridless eH3000離子源解離 Ar 氣體,轟擊玻璃表面,對(duì)玻璃基片表面進(jìn)行清洗和刻蝕.
推薦理由: 設(shè)備穩(wěn)定,抗污染能力強(qiáng),可以進(jìn)行基片表面清洗與輔助沉積, KRI 霍爾離子源 Gridless eH3000 對(duì)玻璃基片表面有效去除二次污染/ 增加基片表面能/ 控制基片表面粗糙度.
運(yùn)行結(jié)果:
伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.
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