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誤區(qū)一：試驗(yàn)完成后再申請(qǐng)專利

很多研發(fā)人員覺(jué)得，我的研發(fā)成果還在實(shí)驗(yàn)階段，申請(qǐng)專利為時(shí)過(guò)早，等產(chǎn)品上市后再申請(qǐng)專利更合適。殊不知，這時(shí)已經(jīng)晚了，即使你僥幸獲得授權(quán)，專利也處在不穩(wěn)定狀態(tài)之中。此時(shí)如果你發(fā)現(xiàn)有人侵權(quán)并提起訴訟，侵權(quán)人則會(huì)以專利申請(qǐng)之日技術(shù)已經(jīng)被公開(kāi)為由進(jìn)行抗辯。專利申請(qǐng)的基礎(chǔ)不是已經(jīng)在市場(chǎng)上存在的產(chǎn)品，也不一定是已經(jīng)成型的產(chǎn)品。因此，只要有了切實(shí)可行的想法，就可以著手申請(qǐng)文件的撰寫(xiě)了。

誤區(qū)二：產(chǎn)品專利申請(qǐng)后一勞永逸

有部分發(fā)明人認(rèn)為申請(qǐng)了一項(xiàng)專利后，就可“高枕無(wú)憂”，從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)工作，即使開(kāi)發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進(jìn)，也不再申請(qǐng)專利。但是，這種錯(cuò)誤認(rèn)識(shí)的后果不異于未申請(qǐng)專利，因?yàn)楫?dāng)他人對(duì)該產(chǎn)品有了改進(jìn)并申請(qǐng)了專利，反過(guò)來(lái)就限制了原專利權(quán)人產(chǎn)品的更新?lián)Q代，這就會(huì)導(dǎo)致原專利權(quán)人不經(jīng)意間反而變成了侵權(quán)人。此時(shí)，原專利權(quán)人就喪失了自己的知識(shí)產(chǎn)權(quán)。

誤區(qū)三： 一項(xiàng)成果只能申請(qǐng)一類專利

有部分發(fā)明人認(rèn)為一項(xiàng)技術(shù)成果一次只能申請(qǐng)一類專利，即只能申請(qǐng)發(fā)明專利或只能申請(qǐng)實(shí)用新型專利或者只能申請(qǐng)外觀設(shè)計(jì)專利。并不是，我國(guó)專利法規(guī)定的專利類型有三類：發(fā)明專利、實(shí)用新型專利及外觀設(shè)計(jì)專利，一項(xiàng)產(chǎn)品發(fā)明可同時(shí)申請(qǐng)多種專利，技術(shù)方案也可以同時(shí)申請(qǐng)實(shí)用新型和發(fā)明專利。

實(shí)用新型專利批得快，可盡快獲得相應(yīng)保護(hù)，通常需8個(gè)月左右時(shí)間;發(fā)明專利則通常需2～5年審查批準(zhǔn)時(shí)間;從近兩年的審查情況看，新型專利通常8個(gè)月左右即可授權(quán)，發(fā)明專利則需2年半左右。

誤區(qū)四 ：有專利證書(shū)就是有效的專利權(quán)

在我國(guó)，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局對(duì)實(shí)用新型和外觀設(shè)計(jì)專利不進(jìn)行實(shí)質(zhì)審查，即使在你申請(qǐng)之前已經(jīng)有人就相同的技術(shù)方案申請(qǐng)過(guò)非常類似的專利，你的申請(qǐng)仍可能會(huì)被批準(zhǔn)。如果沒(méi)有人提出異議，你的專利權(quán)會(huì)維持下去。一旦有人對(duì)你的專利提出無(wú)效宣告，那么你的專利會(huì)幾乎百分之百地被無(wú)效掉，也就是說(shuō)你并沒(méi)有取得有效的專利權(quán)。就發(fā)明專利而言，雖然國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局對(duì)它進(jìn)行過(guò)實(shí)質(zhì)審查，但誰(shuí)也不能保證發(fā)明專利審查部門(mén)對(duì)世界范圍內(nèi)所有相關(guān)的文獻(xiàn)資料都檢索過(guò)。

誤區(qū)五 ：技術(shù)方面遮遮掩掩

很多單位的發(fā)明人提交的專利申請(qǐng)文件非常簡(jiǎn)單，有的甚至只有幾句話，技術(shù)方案完全沒(méi)有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請(qǐng)文件帶來(lái)很大困難。

要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時(shí)，他們會(huì)以技術(shù)保密為由回避，表明這些發(fā)明人沒(méi)有把握好保密與公開(kāi)的度。他們只是一味要求保密，害怕多透露一點(diǎn)技術(shù)信息，而恰恰忽視了公開(kāi)不充分的問(wèn)題。

誤區(qū)六 ：先發(fā)論文再申請(qǐng)專利

有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒(méi)有想到先申請(qǐng)專利保護(hù)。因?yàn)榘l(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開(kāi)技術(shù)內(nèi)容，使專利申請(qǐng)失去新穎性而得不到保護(hù)。

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