| 對抗腐蝕性氣體！愛發(fā)科耐高溫涂層真空泵護航ALD工藝穩(wěn)定性 |
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價格：12500 元(人民幣) | 產(chǎn)地：廣東東莞市 |
| 最少起訂量：1臺 | 發(fā)貨地：廣東東莞市 | |
| 上架時間：2025-04-10 11:13:37 | 瀏覽量：70 | |
東莞市飛粵真空科技有限公司
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對抗腐蝕性氣體！愛發(fā)科耐高溫涂層真空泵護航ALD工藝穩(wěn)定性
應用場景愛發(fā)科耐高溫涂層真空泵專為 原子層沉積（ALD）工藝 設計，尤其適配以下嚴苛場景： 1. 高k介質沉積（如HfO?、Al?O?） - 需耐受Cl?、WF?等強腐蝕前驅體氣體，確保薄膜介電性能一致性。 2. 3D結構填充（如DRAM電容、3D NAND通道孔） - 在深寬比＞50:1的結構中實現(xiàn)無缺陷保形沉積。 3. EUV光刻膠底層沉積 - 對抗含金屬有機化合物（MO源）的化學侵蝕，保障光刻圖形精度。 產(chǎn)品特點 1.耐腐蝕等離子噴涂涂層 - 采用氮化鋁（AlN）與碳化硅（SiC）復合涂層，耐腐蝕性提升 5倍（對比傳統(tǒng)不銹鋼）。 - 耐受溫度范圍 -50℃至400℃，適配ALD工藝中的快速升降溫循環(huán)。 2. 全干式無油設計 - 消除潤滑油與腐蝕性氣體反應風險，避免生成顆粒污染物。 3. 模塊化密封結構 - 快拆式密封法蘭設計，減少維護時氣體泄漏風險（泄漏率＜1×10?? Pa·m?/s）。 4. 智能氣體兼容模式 - 內置傳感器自動識別氣體類型（如NH?、O?），調節(jié)泵體轉速與溫度保護閾值。 -核心優(yōu)勢
實證案例 某12英寸邏輯芯片廠ALD工藝升級- 挑戰(zhàn)：使用WF?沉積鎢柵極時，傳統(tǒng)泵體因腐蝕導致每500小時需停機維護，良率損失8%。 - 解決方案：替換為愛發(fā)科耐高溫涂層真空泵，配合 **在線腐蝕監(jiān)測系統(tǒng)。 - 成果： - 連續(xù)運行 6,000小時無性能衰減，維護成本減少 52%。 - 鎢薄膜電阻率標準差從 4.5%降至 1.2%，芯片性能一致性達標率 99.6%。 愛發(fā)科耐高溫涂層真空泵通過三重防護技術（抗腐蝕涂層、無油密封、智能控制），直面ALD工藝中 強腐蝕、高精度、快循環(huán)的極限挑戰(zhàn)，成為先進制程的可靠保障： 1. 技術突破：氮化鋁復合涂層將腐蝕速率降低至 0.01μm/年，壽命行業(yè)領先。 2.商業(yè)價值：單臺設備全生命周期成本降低 35%，助力客戶實現(xiàn) 28個月ROI。 3.未來兼容：預留AIoT接口，支持與工廠MES系統(tǒng)聯(lián)動，實現(xiàn)預測性維護升級。
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