ASML 4022.634.17485
:技術(shù)參數(shù)與性能解析
ASML作為全球領(lǐng)先的光刻設(shè)備制造商,其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片制造領(lǐng)域。本文將詳細(xì)介紹ASML 4022.634.17485這一型號(hào)的光刻設(shè)備參數(shù),幫助讀者全面了解其技術(shù)特點(diǎn)與性能優(yōu)勢(shì)。
基本信息
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型號(hào):ASML 4022.634.17485
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用途:用于先進(jìn)半導(dǎo)體芯片制造,支持7nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)
光源系統(tǒng)
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光源類型:ArF(氟化氬)準(zhǔn)分子激光
ASML 4022.634.17485采用先進(jìn)的ArF準(zhǔn)分子激光作為光源,其193nm的波長(zhǎng)能夠滿足高分辨率光刻需求。光源功率高達(dá)60W以上,確保了設(shè)備的高效運(yùn)行,而激光穩(wěn)定性控制在0.5%以內(nèi),則保證了光刻過(guò)程中的高精度與一致性。
光學(xué)系統(tǒng)
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投影透鏡系統(tǒng):雙工件臺(tái)系統(tǒng)
該設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)具備高數(shù)值孔徑的物鏡和先進(jìn)的雙工件臺(tái)投影透鏡系統(tǒng),這不僅提高了光刻分辨率,使其達(dá)到7nm及以下水平,還保證了套刻精度在1.5nm以內(nèi),從而滿足了先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)對(duì)高精度光刻的嚴(yán)格要求。
工件臺(tái)系統(tǒng)
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工件臺(tái)類型:TWINSCAN平臺(tái)
ASML 4022.634.17485搭載的TWINSCAN平臺(tái)工件臺(tái)系統(tǒng),具有高速移動(dòng)和高加速度的特點(diǎn),移動(dòng)速度可達(dá)500mm/s以上,加速度超過(guò)10g。同時(shí),其定位精度高達(dá)0.5nm以下,確保了光刻過(guò)程中的高精度定位與曝光。
浸沒(méi)系統(tǒng)
采用去離子水作為浸沒(méi)液體,通過(guò)精確的溫度和厚度控制,ASML 4022.634.17485的浸沒(méi)系統(tǒng)能夠有效提高光刻分辨率并減少工藝誤差。溫度控制精度在±0.01°C以內(nèi),厚度控制精度則在±1nm以內(nèi)。
生產(chǎn)能力
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產(chǎn)能:≥200wph(每小時(shí)晶圓數(shù))
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生產(chǎn)效率:支持多模式生產(chǎn)
該設(shè)備具備較高的生產(chǎn)能力,每小時(shí)可處理200片以上晶圓。支持多模式生產(chǎn),能夠靈活適應(yīng)不同工藝需求。此外,設(shè)備良率高達(dá)95%以上,為客戶帶來(lái)了顯著的經(jīng)濟(jì)效益。
環(huán)境與安全
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安全標(biāo)準(zhǔn):符合國(guó)際安全標(biāo)準(zhǔn)
ASML 4022.634.17485在能耗和噪音控制方面表現(xiàn)出色,能耗不超過(guò)1000kW,噪音水平控制在85dB(A)以下。同時(shí),設(shè)備符合國(guó)際安全標(biāo)準(zhǔn),保障了操作人員的安全與健康。
總結(jié)
ASML 4022.634.17485作為一款先進(jìn)的浸沒(méi)式光刻設(shè)備,憑借其卓越的光源系統(tǒng)、光學(xué)系統(tǒng)、工件臺(tái)系統(tǒng)和浸沒(méi)系統(tǒng),以及高效的生產(chǎn)能力和良好的環(huán)境與安全性能,為半導(dǎo)體芯片制造提供了強(qiáng)大的技術(shù)支持。其技術(shù)參數(shù)和性能優(yōu)勢(shì)使其成為全球半導(dǎo)體行業(yè)不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備之一。
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