| ASML 4022.640.01733 |
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價(jià)格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：國(guó)外國(guó)外 |
| 最少起訂量：1件 | 發(fā)貨地：全國(guó)全國(guó) | |
| 上架時(shí)間：2025-02-16 18:05:49 | 瀏覽量：51 | |
寧德潤(rùn)恒自動(dòng)化設(shè)備有限公司
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ASML 4022.640.01733ASML 4022.640.01733 ASML 4022.640.01733 ：核心技術(shù)參數(shù)全面
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，ASML作為光刻技術(shù)的領(lǐng)頭羊，其設(shè)備一直備受關(guān)注。ASML 4022.640.01733作為ASML公司的一款重要產(chǎn)品，憑借其卓越的技術(shù)參數(shù)和穩(wěn)定的性能，成為了眾多芯片制造企業(yè)的。本文將深入解析ASML 4022.640.01733的核心技術(shù)參數(shù)，幫助讀者全面了解這款先進(jìn)的光刻設(shè)備。
基本信息
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型號(hào)：ASML 4022.640.01733
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類型：極紫外（EUV）光刻機(jī)
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用途：用于7nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)的芯片制造
光源系統(tǒng)
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光源類型：EUV（極紫外）光源
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波長(zhǎng)：13.5納米（nm）
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光源功率：高達(dá)250瓦（W）
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光源穩(wěn)定性：優(yōu)于0.5%的波動(dòng)范圍，確保高精度曝光
投影系統(tǒng)
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投影鏡頭：采用高精度光學(xué)鏡頭系統(tǒng)，具有極低的畸變率和極高的分辨率
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數(shù)值孔徑（NA）：0.33
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分辨率：支持7nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)
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套刻精度：優(yōu)于2納米（nm）
工作臺(tái)系統(tǒng)
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工作臺(tái)類型：雙工作臺(tái)系統(tǒng)
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工作臺(tái)精度：亞納米級(jí)精度
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工作臺(tái)速度：高達(dá)500毫米/秒（mm/s）
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工作臺(tái)加速度：大于2米/秒?（m/s?）
曝光系統(tǒng)
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曝光方式：步進(jìn)掃描式曝光
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曝光劑量：可精確控制在1毫焦耳/平方厘米（mJ/cm?）
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曝光時(shí)間：可根據(jù)工藝需求靈活調(diào)整
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掩模版尺寸：支持多種標(biāo)準(zhǔn)尺寸掩模版
環(huán)境控制
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溫度控制：設(shè)備內(nèi)部溫度控制在±0.1攝氏度（℃）以內(nèi)
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濕度控制：濕度控制在10%以下
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振動(dòng)控制：采用先進(jìn)的隔振系統(tǒng)，確保設(shè)備運(yùn)行過(guò)程中的穩(wěn)定性
其他關(guān)鍵參數(shù)
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設(shè)備尺寸：長(zhǎng)×寬×高約為10米×5米×4米（m）
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設(shè)備重量：約150噸（t）
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功耗：約3兆瓦（MW）
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生產(chǎn)效率：每小時(shí)可處理超過(guò)150片晶圓
技術(shù)優(yōu)勢(shì)
ASML 4022.640.01733憑借其極紫外光源技術(shù)、高精度投影系統(tǒng)和雙工作臺(tái)設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了的分辨率和套刻精度。其高效的曝光系統(tǒng)和嚴(yán)格的環(huán)境控制，確保了設(shè)備在極端工藝條件下的穩(wěn)定性和可靠性。此外，設(shè)備的高生產(chǎn)效率也大大降低了芯片制造的成本。
應(yīng)用場(chǎng)景
ASML 4022.640.01733主要應(yīng)用于7nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)的芯片制造，包括高性能計(jì)算芯片、移動(dòng)處理器、圖形處理器等高性能芯片的制造。其先進(jìn)的技術(shù)參數(shù)和穩(wěn)定的性能，使其成為芯片制造企業(yè)提升技術(shù)水平和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力的關(guān)鍵設(shè)備。
綜上所述，ASML 4022.640.01733以其卓越的技術(shù)參數(shù)和穩(wěn)定的性能，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域占據(jù)了重要地位。相信在未來(lái)的芯片制造過(guò)程中，這款設(shè)備將繼續(xù)發(fā)揮重要作用，為芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出貢獻(xiàn)。
關(guān)鍵詞：ASML 4022.640.01733, EUV光刻機(jī), 技術(shù)參數(shù), 光源系統(tǒng), 投影系統(tǒng), 工作臺(tái)系統(tǒng), 曝光系統(tǒng), 環(huán)境控制
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