| ASML 4022.502.64809 |
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價(jià)格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：國外國外 |
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寧德潤恒自動(dòng)化設(shè)備有限公司
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ASML 4022.502.64809ASML 4022.502.64809 ：技術(shù)參數(shù)與性能優(yōu)勢
ASML作為全球領(lǐng)先的光刻設(shè)備供應(yīng)商，其產(chǎn)品一直備受半導(dǎo)體行業(yè)的關(guān)注。ASML 4022.502.64809作為其產(chǎn)品線中的一員，以其卓越的技術(shù)參數(shù)和性能優(yōu)勢，在芯片制造過程中發(fā)揮著重要作用。
基本信息
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型號(hào)：ASML 4022.502.64809
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類型：光刻設(shè)備
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制造商：ASML（荷蘭）
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生產(chǎn)日期：2024年
技術(shù)參數(shù)
1.
光源系統(tǒng) - 光源類型：極紫外光（EUV）
- 波長：13.5納米（nm）
- 光源功率：250瓦（W）
2.
光學(xué)系統(tǒng) - 數(shù)值孔徑（NA）：0.33
- 分辨率：小于10納米（nm）
- 投影透鏡：采用先進(jìn)的折射式光學(xué)系統(tǒng)
3.
工作臺(tái)系統(tǒng) - 精度：亞納米級(jí)
- 最大載片尺寸：300毫米（mm）
- 對準(zhǔn)精度：優(yōu)于1納米（nm）
4.
曝光系統(tǒng) - 曝光方式：步進(jìn)掃描式
- 掃描速度：500毫米/秒（mm/s）
- 曝光劑量控制：高精度劑量控制，誤差小于1%
5.
環(huán)境控制 - 溫度穩(wěn)定性：±0.001°C
- 振動(dòng)控制：采用主動(dòng)隔振系統(tǒng)，確保工作環(huán)境穩(wěn)定
性能優(yōu)勢
1.
高分辨率：憑借EUV光源和先進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng)，ASML 4022.502.64809能夠?qū)崿F(xiàn)小于10納米的分辨率，滿足先進(jìn)制程的需求。
2.
高精度：工作臺(tái)系統(tǒng)和對準(zhǔn)系統(tǒng)的精度均達(dá)到了亞納米級(jí)，確保了芯片制造過程中的高精度要求。
3.
高效率：快速的掃描速度和高效的劑量控制，使得該設(shè)備能夠在短時(shí)間內(nèi)完成大量芯片的制造任務(wù)。
4.
穩(wěn)定性：嚴(yán)格的環(huán)境控制，確保了設(shè)備在長時(shí)間運(yùn)行中的穩(wěn)定性和可靠性。
5.
靈活性：能夠兼容多種材料和工藝，滿足不同客戶的需求。
應(yīng)用領(lǐng)域
ASML 4022.502.64809廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別是在7納米及以下制程的芯片制造中。其高分辨率和高精度使其在邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片以及高性能計(jì)算芯片的制造中發(fā)揮著不可替代的作用。
結(jié)語
ASML 4022.502.64809以其卓越的技術(shù)參數(shù)和性能優(yōu)勢，成為了半導(dǎo)體制造行業(yè)中的重要設(shè)備。其高分辨率、高精度以及高效率等特點(diǎn)，使得該設(shè)備在先進(jìn)制程的芯片制造中占據(jù)了重要地位。未來，隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，ASML 4022.502.64809將繼續(xù)為芯片制造業(yè)帶來新的突破和進(jìn)步。
聯(lián)系人：吳經(jīng)理 手機(jī)：18596688429（微信同號(hào)）郵箱：841825244@qq.com
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