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ASML 4022.630.8795.2

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光刻機參數(shù)詳解

ASML 4022.630.8795.2光刻機是一款先進的半導(dǎo)體制造設(shè)備，以下是其主要參數(shù)：

• 光源：采用193nm波長的ArF準分子激光光源，通過浸潤式技術(shù)進一步提升分辨率。
• 數(shù)值孔徑（NA）：擁有高數(shù)值孔徑，具體數(shù)值可能因型號而異，但通常在1.35左右，以實現(xiàn)更高的分辨率。
• 分辨率：能夠?qū)崿F(xiàn)小于38nm的分辨率，滿足先進制程的需求。
• 套刻精度：套刻精度高，確保多層圖案的準確對齊。
• 產(chǎn)能（WPH）：每小時產(chǎn)能可達280片以上，具體數(shù)值取決于具體型號和配置。
• 曝光方式：支持步進掃描曝光方式，提高生產(chǎn)效率。
• 晶圓尺寸：兼容300mm晶圓，適應(yīng)大規(guī)模生產(chǎn)需求。
• 控制系統(tǒng)：配備先進的控制系統(tǒng)，實現(xiàn)高精度、高效率的曝光操作。
• 環(huán)境要求：需要在潔凈室環(huán)境中運行，對溫度、濕度和振動等有嚴格要求。1

ASML 4022.630.8795.2光刻機憑借其卓越的性能和穩(wěn)定性，成為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的重要設(shè)備，為芯片制造提供了可靠的技術(shù)支持。