| 擴散爐 |
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價格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：山東青島市 |
| 最少起訂量：1臺 | 發(fā)貨地：山東青島市 | |
| 上架時間：2024-08-31 09:07:23 | 瀏覽量：31 | |
青島福潤德微電子設(shè)備有限公司
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| 所屬行業(yè)：電子產(chǎn)品制造設(shè)備 | 主要客戶： | |
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擴散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工的硅
片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、 擴散爐技術(shù)指標(biāo)：
u可處理硅片尺寸：2—12英寸
u外型形式：臥式1—4管結(jié)構(gòu)
u工作溫度：200℃—1300℃
u恒溫區(qū)長度及精度：200mm—1100mm≤±0.5℃
u單點溫度穩(wěn)定性、重復(fù)性：≤±1℃／24h
u溫度斜變：可控升溫速率15℃／min
u可控降溫速率：5℃／min
u送片裝置：手動推拉
u氣路系統(tǒng)：1—5路工藝氣體／管
u氣體控制：手動浮子流量計
u控制方式：程控
氧化擴散爐性能特點：
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