KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 Ir 膜 |
![]() |
價(jià)格: 元(人民幣) | 產(chǎn)地:美國(guó) |
最少起訂量:1個(gè) | 發(fā)貨地:上海 | |
上架時(shí)間:2023-03-24 10:33:19 | 瀏覽量:208 | |
伯東企業(yè)(上海)有限公司
![]() |
||
經(jīng)營(yíng)模式:代理商 | 公司類型:外商獨(dú)資 | |
所屬行業(yè):真空泵 | 主要客戶: | |
![]() ![]() |
聯(lián)系人:羅 (先生) | 手機(jī):15201951076 |
電話: |
傳真: |
郵箱:marketing@hakuto-vacuum.cn | 地址:上海市浦東新區(qū)新金橋路1888號(hào)36號(hào)樓7樓702室 201206 |
銥 (Ir) 是一種很好的真空紫外反射材料. 在 50100nm 的波長(zhǎng)范圍內(nèi), Ir 膜反射率比此波長(zhǎng)范圍內(nèi)常用材料 Au、Pt 都高, 雖比 Os 膜反射率稍低, 但后者時(shí)效效應(yīng)嚴(yán)重. 相比之下, 空氣中的時(shí)效對(duì) Ir 膜反射率幾乎沒有影響, 考慮綜合性能, Ir 膜在真空紫外波段 50100nm 范圍內(nèi).
安徽某大學(xué)課題租采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 , 在石英、K9 玻璃和 Si 基片上濺射沉積不同厚度的 Ir 膜各種不同厚度的 Ir 膜, 研究基片、表面厚度、離子束能量對(duì) Ir 膜反射率的影響.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):
* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量
試驗(yàn)中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助磁控濺射沉積的方法獲得均勻致密、大面積的 Ir 膜, 沉積過程中通過調(diào)節(jié)參數(shù), 沉積時(shí)間等從而得到不同厚度的 Ir 薄膜材料, 滿足各種試驗(yàn)需求.
KRI 離子源的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.
因此, 該研究項(xiàng)目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.
伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的代理商.
若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
上海伯東: 羅先生 臺(tái)灣伯東: 王女士 伯東版權(quán)所有, 翻拷必究! |
版權(quán)聲明:以上所展示的信息由會(huì)員自行提供,內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布會(huì)員負(fù)責(zé)。機(jī)電之家對(duì)此不承擔(dān)任何責(zé)任。 友情提醒:為規(guī)避購(gòu)買風(fēng)險(xiǎn),建議您在購(gòu)買相關(guān)產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。 |
機(jī)電之家網(wǎng) - 機(jī)電行業(yè)權(quán)威網(wǎng)絡(luò)宣傳媒體
關(guān)于我們 | 聯(lián)系我們 | 廣告合作 | 付款方式 | 使用幫助 | 會(huì)員助手 | 免費(fèi)鏈接Copyright 2025 jdzj.com All Rights Reserved??技術(shù)支持:機(jī)電之家 服務(wù)熱線:0571-87774297
網(wǎng)站經(jīng)營(yíng)許可證:浙B2-20080178