KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用 |
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價格: 元(人民幣) | 產(chǎn)地:美國 |
最少起訂量:1個 | 發(fā)貨地:上海 | |
上架時間:2023-03-20 09:52:56 | 瀏覽量:215 | |
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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所屬行業(yè):真空泵 | 主要客戶: | |
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e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)加裝 KRi 離子源作用
美國 KRi KDC 考夫曼型離子源技術(shù)參數(shù):
上海伯東美國 KRi 離子源 KDC 系列適用于標(biāo)準(zhǔn)和新興材料工藝. 在原子水平上工作的能力使 KDC 離子源能夠有效地設(shè)計具有納米精度的薄膜和表面. 無論是密度壓實, 應(yīng)力控制, 光學(xué)傳輸, 電阻率, 光滑表面, 提高附著力, 垂直側(cè)壁和臨界蝕刻深度, KDC 離子源都能產(chǎn)生有益的材料性能. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
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