| 硝酸鈰銨電路板及鉻掩模板蝕刻液的最重要的組成成份 |
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硝酸鈰銨是什么?
硝酸鈰(Ⅳ)銨, 硝酸鈰銨二水合物;英文名Diammonium cerium(IV) nitrate 分子式:(NH4)2Ce(NO3)6?2H2O 硝酸鈰銨分子量:584.23 CAS . :16774-21-3 外觀性狀:桔紅色單斜晶系細(xì)小結(jié)晶,易溶于水,有潮解性,密閉保存。 山東硝酸鈰銨廠(chǎng)家 硝酸鈰銨批發(fā)價(jià)格 工業(yè)級(jí)硝酸鈰銨用途:用于電路板刻蝕劑、醫(yī)藥中間體、化學(xué)試劑等行業(yè)。
優(yōu)質(zhì)硝酸鈰銨哪里長(zhǎng)期生產(chǎn)并有現(xiàn)貨?
產(chǎn)品主要用途:用作催化劑和氧化劑,電路板刻蝕劑,醫(yī)藥中間體,化學(xué)試劑,電子技術(shù)工業(yè)等, 硝酸鈰銨產(chǎn)品是電路板及鉻掩模板蝕刻液的最重要的組成成份,在半導(dǎo)體器件制作中光罩是常用工具,光刻技術(shù)應(yīng)用于光敏感膠,硝酸鈰銨作為一種聚合可溶解物被涂在金屬襯底,或玻璃表面,然后光刻膠烘焙除去溶劑,再將其電子束或激光光束曝光,然后光進(jìn)行化學(xué)處理,如顯影蝕刻等工藝。 最先刻蝕液和鉻膜反應(yīng)比較慢,蝕刻不均勻,原料主要以進(jìn)口為主,進(jìn)口原液反應(yīng)較很好。蝕刻均勻,但是進(jìn)口原液價(jià)格特別高昂,高昂的價(jià)格會(huì)使掩膜板后續(xù)制作成本大大增加,目前發(fā)現(xiàn)有一種氣體揮發(fā)少,成本低,蝕刻效果非常好的蝕刻液其主要成份就有硝酸稀土中的硝酸鈰銨,高氯酸和水的組成溶液(由于硝酸鈰銨溶解于水中時(shí)容易出現(xiàn)水解反應(yīng)溶液會(huì)出現(xiàn)沉現(xiàn)象,使溶解液不清亮,為了防止此水解現(xiàn)象出現(xiàn),在配制此刻蝕液時(shí)一定要加入過(guò)量的稀硝酸且制成的溶液不能放置時(shí)間太長(zhǎng)即時(shí)地使用完)通過(guò)上述制成蝕刻劑(液)進(jìn)行刻蝕后板材蝕刻線(xiàn)質(zhì)量好,線(xiàn)性較好且均勻,完全可以相比于并優(yōu)于進(jìn)口的原液。
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