| 巨力光電 RHEED圖形分析系統(tǒng) 美國kSA |
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價(jià)格:5000000 元(人民幣) | 產(chǎn)地:本地 |
| 最少起訂量:1 | 發(fā)貨地:本地至全國 | |
| 上架時(shí)間:2022-07-31 09:31:42 | 瀏覽量:16 | |
巨力光電(北京)科技有限公司
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| 經(jīng)營模式:其他 | 公司類型: | |
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基本參數(shù)
廠家:k-Space Associates, Inc. 型號:kSA 400
原理: 通過對RHEED入射電子能量的控制,用高分辨、高速CCD直接采集來自樣品對電子束的衍射圖像,并通過專業(yè)軟件系統(tǒng)對其進(jìn)行圖像處理 和數(shù)據(jù)分析; 分析功能:同時(shí)測量晶格間距、相干長度和晶體表面結(jié)構(gòu)演化;薄膜沉積速率和沉積厚度分析;三維衍射圖像分析等; 應(yīng)用:可裝在各種薄膜沉積設(shè)備上,對材料的多項(xiàng)物理特性進(jìn)行實(shí)時(shí)在線分析; 主要特性: 1. 衍射圖像采集采用先進(jìn)的CCD和光學(xué)系統(tǒng); 2. 適用于MBE、 PLD、濺射和電子束蒸發(fā)等多種薄膜沉積系統(tǒng); 3. 持續(xù)不斷的軟件系統(tǒng)更新; 4. 包含鎖相外延生長(PLE)、低能電子衍射(LEED)、俄歇電子能譜/光電子能譜(Auger/XPS)等可選功能; 5. 實(shí)時(shí)的薄膜生長速率、晶格間距和表面均勻性分析; 6. 專業(yè)的技術(shù)支持; 7. 多個(gè)品牌的電子槍各種控制功能可供選擇; |
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