| 實(shí)驗(yàn)室用快速退火爐 |
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價(jià)格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：本地 |
| 最少起訂量：1 | 發(fā)貨地：本地至全國(guó) | |
| 上架時(shí)間：2022-07-31 03:45:49 | 瀏覽量：157 | |
北京朗銘潤(rùn)德光電科技有限公司
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
實(shí)驗(yàn)室用快速退火爐 又名RTP設(shè)備，此設(shè)備為型號(hào)AS-One系列，分為可以處理4“基片的AS-ONE100以及處理6“基片的AS-ONE150，更小的基片可使用基片托。主要用于大學(xué)，研究實(shí)驗(yàn)室以及年產(chǎn)量高達(dá)10000晶圓的小規(guī)模生產(chǎn)。 詳情介紹 實(shí)驗(yàn)室用快速退火爐 1、設(shè)備尺寸詳情：AS-0NE100：530*800*1425mm 2、型號(hào)介紹： 不銹鋼水冷壁腔室壁真空快速退火爐(快速熱處理爐)，具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 兩種版本 3、性能和特征： 可處理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圓，可適用大范圍類型的基片：硅和化合物半導(dǎo)體晶圓，GaN /藍(lán)寶石和碳化硅晶圓，多晶硅晶圓，玻璃，金屬，高分子聚合物，石墨和碳化硅托盤等等。 設(shè)備應(yīng)用具有：硒化、硫化、接觸退火，注入退火，RTO (快速熱氧化) ，RTN (快速熱氮化) ，硅平滑，擴(kuò)散，致密化和結(jié)晶化，石墨烯CVD，碳納米管等。 不銹鋼水冷腔壁技術(shù)，高工藝復(fù)現(xiàn)性，超潔凈及無(wú)污染環(huán)境 高冷卻速率，低記憶效應(yīng) 具有真空能力，可選配分子泵 溫度控制：高溫計(jì)和熱電偶控制+快速數(shù)字PID溫度控制器 邊緣高溫計(jì)視口，確保用于化合物半導(dǎo)體和小型樣品 基片托的溫度控制 實(shí)驗(yàn)室用快速退火爐  4、快速退火爐的具體參數(shù)溫度范圍: 室溫至1250°C(AS-One100)、室溫至1450°C(AS-One100HT)、室溫至1200°C(AS-One150)、室溫至1300°C(AS-One150HT)、升溫速率：可達(dá)200°C/s(AS-One100)，可達(dá)150°C/s(AS-One150) 特殊配置下冷卻速率達(dá) 100°C/s(選配快速冷卻裝置) 可配5條帶質(zhì)量流量控制器(MFC)的工藝氣路 標(biāo)配一條吹掃氣路 具有真空能力，配備干泵，可選配分子泵。 |
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