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光學(xué)薄膜是改變光學(xué)零件表面特征而鍍?cè)诠鈱W(xué)零件表面上的一層或多層膜. 可以是金屬膜、介質(zhì)膜或這兩類膜的組合. 光學(xué)薄膜是各種先進(jìn)光電技術(shù)中不可缺少的一部分, 它不僅能改善系統(tǒng)性能, 而且是滿足設(shè)計(jì)目標(biāo)的必要手段, 光學(xué)薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域設(shè)及光學(xué)系統(tǒng)的各個(gè)方面.它們?cè)趪?guó)民經(jīng)濟(jì)和國(guó)防建設(shè)中得到了廣泛的應(yīng)用, 獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視.

光學(xué)鍍膜機(jī)適合鍍制多種光學(xué)膜. 如望遠(yuǎn)鏡、眼鏡片、光學(xué)鏡頭、冷光杯等, 配置不同的蒸發(fā)源及膜厚儀, 可鍍制多種膜系, 對(duì)金屬、氧化物、化合物及其他高熔點(diǎn)膜材皆可蒸鍍, 并可在玻璃表面鍍超硬膜.

伯東KRI 考夫曼霍爾離子源用于光學(xué)鍍膜機(jī)

在光學(xué)鍍膜中, 為了提高折射率（填充密度）、減少波長(zhǎng)漂移、減少紅外波段的水氣吸收、增強(qiáng)了膜層的結(jié)合力、耐摩擦能力、機(jī)械強(qiáng)度、提高表面光潔度、控制膜層的應(yīng)力、減少膜層的吸收和散射、提高生產(chǎn)效率, 鍍膜廠商會(huì)把離子源用于光學(xué)鍍膜機(jī)上.

離子源類型雖多, 目的卻無(wú)非在線清洗, 改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量. 離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度, 同時(shí)膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會(huì)改善.

某廠商為了提供鍍膜的質(zhì)量和提高生產(chǎn)效率, 需要在鍍膜機(jī)上搭配離子源, 通過(guò)溝通了解到客戶的要求及使用環(huán)境, 伯東工程師為客戶推薦KRI考夫曼霍爾離子源 EH1020 F, 并幫忙客戶把離子源安裝在1400 mm 蒸鍍鍍膜機(jī), 應(yīng)用于塑料光學(xué)鍍膜.

常見(jiàn)蒸鍍機(jī)臺(tái)與對(duì)應(yīng) KRI 霍爾離子源型號(hào)：

伯東KRI 考夫曼霍爾離子源優(yōu)勢(shì)：

1.可拆卸陽(yáng)極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí), 最大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽(yáng)極

2.寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率

3.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便; 無(wú)需水冷

4.高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

5.KRI 考夫曼霍爾離子源 controller 自動(dòng)化控制及聯(lián)機(jī)自動(dòng)化設(shè)計(jì), 提供使用者在操作上更是便利.

6.KRI 考夫曼霍爾離子源 Gun body 模塊化之設(shè)計(jì)、提供使用者在于基本保養(yǎng)中能夠降低成本及便利性.

KRI 考夫曼霍爾離子源 EH1020 主要參數(shù):

利用 KRI 考夫曼霍爾離子源輔助鍍膜及無(wú)離子源輔助鍍膜對(duì)鍍膜質(zhì)量之比較：

伯東公司主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品德國(guó) Pfeiffer渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管);氦質(zhì)譜檢漏儀；質(zhì)譜分析儀；真空系統(tǒng), HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機(jī)和美國(guó)KRI Kaufman 考夫曼離子源（離子槍）