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專用掃描透射顯微鏡HD-2700，配備了與德國(guó)CEOS GmbH公司（總經(jīng)理Max Haider先生）共同開(kāi)發(fā)的球差校正儀，顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能，更適合高級(jí)納米技術(shù)研究。由于球差校正系統(tǒng)校正了限制電子顯微鏡的性能的球差，使其與標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)顯微鏡相比，分辨率提高了1.5倍，同時(shí)，探針電流提高了10倍。

最近，該顯微鏡還配備了高分辨率鏡頭和冷場(chǎng)發(fā)射電子槍，進(jìn)一步提高了圖像分辨率和電子束能量分辨率。同時(shí)，該型號(hào)系列還增加了一款不帶球差校正的主機(jī)配置，可以以后加配球差校正進(jìn)行升級(jí)。

特點(diǎn)
 
高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像
HAADF-STEM圖像0.136nm，F(xiàn)FT圖像0.105nm（高分辨率鏡頭（*））
HAADF-STEM圖像0.144nm（標(biāo)準(zhǔn)鏡頭）
明場(chǎng)掃描透射電子顯微鏡圖像0.204nm（w/o球差校正儀）
高速，高靈敏度能譜分析：探針電流×10倍
元素面分布更迅速及時(shí)
低濃度元素檢測(cè)
操作簡(jiǎn)化
自動(dòng)圖像對(duì)中功能
從樣品制備到觀察分析實(shí)現(xiàn)無(wú)縫連接
樣品桿與日立聚焦離子束系統(tǒng)兼容
配有各種選購(gòu)件可執(zhí)行各種評(píng)估和分析操作
同時(shí)獲取和顯示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布（*） 和DF/EELS面分布（*）圖像。
低劑量功能（*）（使樣品的損傷和污染程度降至最低）
高精度放大校準(zhǔn)和測(cè)量（*）
實(shí)時(shí)衍射單元（*）（同時(shí)觀察暗場(chǎng)-掃描透射電子顯微鏡圖像和衍射圖案）
采用三維微型柱旋轉(zhuǎn)樣品桿（360度旋轉(zhuǎn)）（*），具有自動(dòng)傾斜圖像獲取功能。
ELV-3000即時(shí)元素面分布系統(tǒng)（*）（同時(shí)獲取暗場(chǎng)-掃描透射電子顯微鏡圖像）
（*） 選購(gòu)件

技術(shù)指標(biāo)
HD-2700球差校正掃描式透射電子顯微鏡

項(xiàng)目		描述
圖像分辨率	w/o球差校正儀	保證 0.204nm（當(dāng)放大倍數(shù)為4,000,000時(shí)）
	w球差校正儀	保證 0.144 nm（當(dāng)放大倍數(shù)為7,000,000時(shí)）（標(biāo)準(zhǔn)鏡頭）
		保證 0.136nm（HAADF圖像） 保證0.105 nm（通過(guò)FFT）（當(dāng)放大倍數(shù)為7,000,000時(shí)）（高分辨率鏡頭（*））
放大倍數(shù)		100倍 至 10,000,000倍
加速電壓		200 kV, 120 kV （*）
成像信號(hào)		明場(chǎng)掃描透射電子顯微鏡：相襯圖像（TE圖像） 暗場(chǎng)掃描透射電子顯微鏡：原子序數(shù)襯度圖像（Z襯度圖像） 二次電子圖像（SE圖像） 電子衍射（*） 特征X射線分析和面分布（能譜分析）（*） 電子能量損失譜分析和面分布（EV3000）（*）
電子光學(xué)系統(tǒng)	電子源	肖特基發(fā)射電子源
		冷場(chǎng)致發(fā)射器（*）
	照明透鏡系統(tǒng)	2-段聚光鏡鏡頭
	球差校正儀（*）	六極鏡頭設(shè)計(jì)
	掃描線圈	2-段式電磁感應(yīng)線圈
	原子序數(shù)襯度收集角控制	投影鏡設(shè)計(jì)
	電磁圖像位移	±1 μm
試片鏡臺(tái)	樣品移動(dòng)	X/Y軸 = ±1 mm, Z軸 = ±0.4 mm
	樣品傾斜	單軸-傾斜樣品桿：±30°（標(biāo)準(zhǔn)鏡頭）, ±18°（高分辨率鏡頭（*））
真空系統(tǒng)		3個(gè)離子泵，1個(gè)TMP
	極限真空	10-8 Pa（電子槍）, 10-5 Pa（樣品室）
圖像顯示	個(gè)人電腦／操作系統(tǒng)	PC/AT兼容, Windows® XP
	監(jiān)視器	19-inch液晶顯示器面板
	圖像幀尺寸	640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素
	掃描速度	快掃，慢掃（0.5至320秒／幀）
	自動(dòng)數(shù)據(jù)顯示	記錄序號(hào)，加速電壓，下標(biāo)尺，日期，時(shí)間