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京邁研廠家直銷 科研實驗專用 MgO靶材氧化鎂靶材磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

純度99.99%

產(chǎn)品介紹

  氧化鎂（化學(xué)式：MgO）是鎂的氧化物，一種離子化合物。常溫下為一種白色固體。氧化鎂以方鎂石形式存在于自然界中，是冶鎂的原料。

  分輕質(zhì)和重質(zhì)兩種。輕質(zhì)體積蓬松難溶于純水及有機溶劑，在水中溶解度因二氧化碳的存在而增大。能溶于酸、銨鹽溶液。遇空氣中的二氧化碳生成碳酸鎂復(fù)鹽。重質(zhì)體積緊密，與水易化合，露置空氣中易吸收水分和二氧化碳。與氯化鎂溶液混合易膠凝硬化。

產(chǎn)品用途
  1、氧化鎂晶體用于各種薄膜形成用襯底，PDP用保護膜材料，光學(xué)材料，高溫材料，窗口材料 2、高純氧化鎂粉末用于PDP保護膜材料，PDP熒光粉漿料，高純陶瓷材料，玻璃材料，涂層材料，電子絕緣材料，各種添加劑。
產(chǎn)品參數(shù)

中文名 氧化鎂                 化學(xué)式 MgO
分子量 40.3044                熔點 2,852℃ (5,166 °F; 3,125 K)
沸點 3600℃                    水溶性 6.2 mg/L (0℃)
密度 3.58 g/cm3（25℃） 摩爾質(zhì)量 40.3044 g/mol
 高純?yōu)R射靶材（規(guī)格按要求定做）

高純金屬濺射靶材
鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鐵靶Fe、鋅靶Zn、錫靶Sn、鎂靶Mg、鈷靶Co、鎳靶Ni、鈦靶Ti、金靶Au、銀靶Ag、鉑靶Pt、錸靶Re、釕靶Ru、鈀靶Pd、銠靶Rh、銥靶Ir、銦靶In、釩靶V、鎘靶Cd、鎢靶W、鉬靶Mo、鉭靶Ta、鈮靶Nb、鋯靶Zr、鉿靶Hf、鍺靶Ge、硅靶Si、錳靶Mn、鉍靶Bi、硒靶Se、硼靶B、鈣靶Ca

合金濺射靶材 （規(guī)格按要求定做）
鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe

陶瓷靶材 （規(guī)格按要求定做）
ITO靶材、AZO靶材、IGZO靶材、氧化鎂靶材MgO、氧化釔靶材Y2O3、氧化鐵靶材Fe2O3、氧化鎳靶材Ni2O3、氧化鉻靶材Cr2O3、氧化鋅靶材ZnO、硫化鋅靶材ZnS、硫化鎘靶材CdS、硫化鉬靶材MoS2、二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化鋯靶材ZrO2、五氧化二鈮靶材Nb2O5、二氧化鈦靶材TiO2、二氧化鉿靶材HfO2、二硼化鈦靶材TiB2、二硼化鋯靶材ZrB2、三氧化鎢靶材WO3、三氧化二鋁靶材Al2O3、五氧化二鉭靶材Ta2O5、氟化鎂靶材MgF2、硒化鋅靶材ZnSe、氮化鋁靶材AlN、氮化硅靶材Si3N4、氮化硼靶材BN、氮化鈦靶材TiN、碳化硅靶材SiC、鈮酸鋰靶材LiNbO3、鈦酸鐠靶材PrTiO3、鈦酸鋇靶材BaTiO3、鈦酸鑭靶材LaTiO3、鈦酸鍶靶材SrTiO3等高密度陶瓷濺射靶材.

稀土靶材
 釓靶Gd、釤靶Sm、碲靶Te、鏑靶Dy、鈰靶Ce、釔靶Y、鑭靶La、銻靶Sb、鐿靶Yb、鉺靶Er、鋱靶Tb、鈥靶Ho、銩靶Tm、釹靶Nd、鐠靶Pr、镥靶Lu

稀土陶瓷靶
氧化鑭靶La2O3、氧化鈰靶CeO2、氧化鐠靶Pr6O11、氧化釹Nd2O3、氧化釤靶Sm2O3、氧化釹靶Nd2O3、氧化鉺Er2O3靶、氧化銩靶Tm2O3、氧化鈥靶Ho2O3、氧化銪靶Eu2O3等稀土陶瓷靶材