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華諾激光專業(yè)定做掩膜版  mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實驗室使用，也適合于工廠批量生產(chǎn)，掩模板可以應用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中，用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品，具體價格需要發(fā)圖紙確認后，才能正式報價。
光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
電極掩模板是一款精度在10微米以內(nèi)的金屬掩模板，該掩模板的特點是高精度、高平整度、高硬度、受熱變形量小等，集眾多優(yōu)點于一身，受到廣大院校和研究所好評。
絕緣層掩膜板屬于金屬掩膜板的一種，它主要用于蒸鍍兩線路層之間絕緣層，其特點為能緊密的貼服在蒸鍍基材上，位置和開孔大小精度高，方便重復定位，使用時間長，是需要精度蒸鍍線路廠家和研究院校的明智之選。