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CDP化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)是我司自主研的一款用于晶圓表面拋光的設(shè)備。其具備性能優(yōu)越，操作簡(jiǎn)單，設(shè)備占用空間小等優(yōu)點(diǎn)。實(shí)現(xiàn)高精度的化學(xué)機(jī)械拋光，適用于多種材料，包括硅晶圓、III-V族化合物、氧化物、紅外材料襯底、藍(lán)寶石、氮化鎵和碳化硅襯底等。

主要功能
◆ 操作方式：自動(dòng)上下料、拋光等工藝。
◆ 設(shè)備可按設(shè)定工藝配方進(jìn)行晶圓拋光。
◆ 設(shè)備控制配備齊全的安全聯(lián)鎖功能
? 設(shè)備明顯位置處設(shè)有EMO緊急停止按鈕；
? 設(shè)備異常斷電時(shí)主電源應(yīng)能自動(dòng)關(guān)斷，確保供電恢復(fù)時(shí)候設(shè)備不會(huì)自動(dòng)啟動(dòng)；
? 設(shè)備運(yùn)動(dòng)等裝置明顯位置處貼有危險(xiǎn)警示標(biāo)記。
◆ 設(shè)備具有齊全的報(bào)警功能，包括壓縮空氣欠壓報(bào)警、真空故障、工藝加工過(guò)程異常報(bào)警等功能。
◆ 系統(tǒng)軟件：可實(shí)現(xiàn)設(shè)備運(yùn)行的實(shí)時(shí)過(guò)程監(jiān)視，具備可視化、數(shù)據(jù)記錄、防止誤操作等功能，軟件可對(duì)機(jī)臺(tái)硬件配置參數(shù)做保存及加載；可快速地進(jìn)行工藝配方編輯、修改、保存等，可自動(dòng)或手動(dòng)運(yùn)行工藝配方；