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德國MicroResist納米壓印膠mr-I7000E、mr-I8000E納米壓印膠

	價格：\u9762\u8bae 元(人民幣)	產(chǎn)地：本地
	最少起訂量：1	發(fā)貨地：本地至全國
	上架時間：2025-04-28 02:25:12	瀏覽量：17
	武漢邁可諾科技有限公司
	經(jīng)營模式：代理商	公司類型：私營有限責(zé)任公司
	所屬行業(yè)：實(shí)驗(yàn)室設(shè)備/實(shí)驗(yàn)室儀器	主要客戶：高校實(shí)驗(yàn)室科研單位
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詳細(xì)介紹

產(chǎn)品參數(shù)
品牌	邁可諾
發(fā)貨地	武漢
產(chǎn)地	德國
起訂量	250ml
可售賣地	全國
型號	mr-I7000E

概括

德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。

品牌	產(chǎn)地	型號	特點(diǎn)
Micro Resist	德國	mr-I 7000E系列	Tg = 60℃ 優(yōu)異的成膜質(zhì)量由于高效的流動性和快速壓印從而縮短整個工藝時間壓印溫度125 - 150℃，壓印壓力20 - 50 bar Plasma刻蝕阻抗性能優(yōu)于PMMA 可獲得優(yōu)于50 nm的分辨率（取決于模版分辨率）

		mr-I 8000E系列	Tg = 115℃ 優(yōu)異的成膜質(zhì)量由于高效的流動性和快速壓印從而縮短整個工藝時間壓印溫度170 - 190℃，壓印壓力20 - 50 bar Plasma刻蝕阻抗性能優(yōu)于PMMA 可獲得優(yōu)于50 nm的分辨率（取決于模版分辨率）

		mr-I PMMA 35k/75k系列	Tg = 105℃ 優(yōu)異的成膜質(zhì)量低分子量從而實(shí)現(xiàn)高效的流動性壓印溫度150 - 180℃，壓印壓力50 bar 可獲得優(yōu)于50 nm的分辨率（取決于模版分辨率）

		mr-I T85系列	Tg = 85℃ 優(yōu)異的成膜質(zhì)量壓印溫度140 - 170℃，壓印壓力大于5 bar Plasma刻蝕阻抗性能優(yōu)于傳統(tǒng)的Novolak基光膠非極化熱塑性、具有優(yōu)異的紫外和光學(xué)透過率，高化學(xué)穩(wěn)定性可獲得優(yōu)于50 nm的分辨率（取決于模版分辨率）

		mr-I 9000E系列	熱固化之前Tg = 35℃ 優(yōu)異的成膜質(zhì)量接近等溫加工處理 n?壓印溫度120℃ n?脫模溫度100℃ 壓印時溫度從Tg到Tg，Cured增加并固化非常低的殘余膠層厚度低至5 nm Plasma刻蝕阻抗性能優(yōu)于傳統(tǒng)的Novolak基光膠可獲得優(yōu)于50 nm的分辨率（取決于模版分辨率）

		mr-NIL 6000系列	光化學(xué)固化之前Tg = 40℃ 優(yōu)質(zhì)的固體光膠薄膜接近等溫加工處理：壓印、紫外曝光固化，壓印與脫模在同一溫度下進(jìn)行非常低的殘余膠層厚度低至10 nm 圖案轉(zhuǎn)移時高保真度 Plasma刻蝕阻抗性能優(yōu)于傳統(tǒng)的Novolak基光膠可獲得優(yōu)于50 nm的分辨率（取決于模版分辨率）寬帶或i線曝光

		mr-UVCur06	旋涂使用優(yōu)質(zhì)的成膜質(zhì)量和膠厚均一性室溫加工處理由于快速地填充模版孔隙從而縮短工藝時間低劑量紫外曝光快速固化可獲得優(yōu)于30 nm的分辨率（取決于模版分辨率） Plasma刻蝕高阻抗性能 O2 Plasma刻蝕可無殘余去除寬帶或i線曝光

邁可諾技術(shù)有限公司

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