| 納米壓印光刻膠MR-IT85系列熱塑性NIL抵抗劑 |
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價(jià)格：\u9762\u8bae 元(人民幣) | 產(chǎn)地：本地 |
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武漢邁可諾科技有限公司
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德國(guó)Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。 ? MR-I T85系列 熱塑性NIL抵抗劑 基于非極性環(huán)烯烴共聚物（TOPAS）的T-NIL抗蝕劑（Tg?= 85°C） ? 特征： 1）用于制造微流體或芯片實(shí)驗(yàn)室設(shè)備的薄膜厚度可能高達(dá)5 μm 2）100％有機(jī)熱塑性塑料→可以使用純氧等離子體進(jìn)行干法蝕刻和剝離 3）在紫外線/可見(jiàn)光范圍內(nèi)具有最高的光學(xué)透明度，并具有針對(duì)不同溶劑，酸和堿的獨(dú)特化學(xué)穩(wěn)定性 ? 應(yīng)用領(lǐng)域 芯片實(shí)驗(yàn)室系統(tǒng) 1）生物應(yīng)用??????????????????4）波導(dǎo) 2）微流控??????????????????????5）單層和多層系統(tǒng) 3）微光學(xué)元件??????????????6）用于圖案轉(zhuǎn)印過(guò)程的掩模 ? 處理步驟 玻璃化溫度??85°攝氏度 烙印溫度??130 – 150°C 壓印壓力??5 – 20巴 適用于各種膜厚（3000 rpm）*? mr-I?T85-0.3???300?nm mr-I?T85-1.0???1.0?μm mr-I?T85-5.0????5.0?μm *可根據(jù)要求提供定制的膜厚 邁可諾技術(shù)有限公司 客服熱線：4008800298 Q Q：3488598979 |
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