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鑫有研光刻機(jī)（lithography）掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)

	價(jià)格：160000.00 元(人民幣)	產(chǎn)地：北京北京
	最少起訂量：1	發(fā)貨地：北京北京
	上架時(shí)間：2023-12-17 23:45:49	瀏覽量：118
	上海鑫有研電子科技有限公司
	經(jīng)營模式：其他	公司類型：中外合資經(jīng)營
	所屬行業(yè)：專用儀器	主要客戶：各大高校，研究院及企事業(yè)單位
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品牌	鑫有研

光刻機(jī)（lithography）又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
曝光系統(tǒng)最核心的部件之一是紫外光源。
常見光源分為:
可見光：g線：436nm
紫外光（UV），i線：365nm
深紫外光（DUV）,KrF 準(zhǔn)分子激光：248 nm, ArF 準(zhǔn)分子激光：193 nm
極紫外光（EUV），10 ~ 15 nm

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