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韓一1600MM磁控濺射鍍膜機(jī) 蒸發(fā)鍍膜 雙空真室電源靶材設(shè)備鍍膜 ?雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜機(jī)（181-030-45976）
用途：
適用于精密光學(xué)元件，高精密光通訊產(chǎn)品鍍制光學(xué)膜:電學(xué)膜、金屬膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各種濾光片、玻璃片及塑膠(樹(shù)脂)件上鍍制增透膜、帶通膜和截止膜等各種膜系的鍍膜。高精度的膜厚控制系統(tǒng)、性能優(yōu)良的電子槍、自動(dòng)化程度極高的鍍膜控制系統(tǒng)等，是高精度光學(xué)薄膜的理想鍍制設(shè)備。
腔體結(jié)構(gòu)： 采用立式雙開(kāi)門(mén)，后置真空獲得系統(tǒng)
電源類(lèi)型： 配置電阻蒸發(fā)電源、離子轟擊電源、可控硅電源
材質(zhì)用料： 嚴(yán)選采用優(yōu)質(zhì)碳鋼或不銹鋼材質(zhì)
泵抽系統(tǒng)： 裝備擴(kuò)散泵或分子泵 羅茨泵 機(jī)械泵 維持泵（配置可選深冷泵）
冷卻系統(tǒng)： 水循環(huán)冷卻方式，另需配冷卻水塔或工業(yè)冷水機(jī)。
轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)： 公自轉(zhuǎn)結(jié)合，變頻調(diào)節(jié)
智能控制： PLC智能控制 HMI全彩人機(jī)觸控界面，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制
報(bào)警及保護(hù)：異常情況進(jìn)行報(bào)警，并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施。
其他技術(shù)參數(shù)：
極限真空： 5.0×10-4Pa
抽氣速率： 5.0*10-2≤5min
水壓流速≥0.2Mpa 3m3/h；水溫≤25℃；氣壓：0.4-0.8Mpa

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品牌 ? ?型號(hào) ? ?數(shù)量
光弛 ? ?1550 ? ?2臺(tái)
? ? 1300 ? ?2臺(tái)
韓國(guó)韓一 ? ?2050 ? ?3臺(tái)
? ? 1600 ? ?2臺(tái)
? ? 1200 ? ?1臺(tái)
? ? 2700 ? ?1臺(tái)
韓國(guó)聯(lián)合 ? ?2050/1300 ? ?2臺(tái)
韓一磁控濺射 ? ?1600 ? ?1臺(tái)
臺(tái)灣龍翩 ? ?1800 ? ?2臺(tái)
臺(tái)灣PEVA ? ?900 ? ?2臺(tái)
德國(guó)萊寶 ? ?1100/1510 ? ?2臺(tái)
日本多弧鍍膜機(jī) ? ?1300 ? ?1臺(tái)
南光 ? ?1100/1300 ? ?4臺(tái)?