PVD掩膜版菲林光刻掩模板金屬mask光罩版廠家直供高精度加工 |
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![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() 掩膜版的功能類(lèi)似于傳統(tǒng)照相機(jī)的底片。制造商通常根據(jù)客戶(hù)所需要的圖形,用光刻機(jī)在原材料上光刻出 相應(yīng)的圖形,將不需要的金屬層和膠層洗去,即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細(xì)光掩膜圖形的感光空白板。通過(guò)光刻制版工藝,將微米級(jí)和納米級(jí)的精細(xì)圖案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要體現(xiàn)為利用已設(shè)計(jì)好的圖案,通過(guò)透光與非透光方式進(jìn)行圖像(電路圖形)復(fù)制,從而實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。 ![]() |
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