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ETD-800參數(shù)：
主機規(guī)格：260mm×307mm×260mm（W×D×H）
電源規(guī)格：220V/50HZ
靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au
真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 115mm×100mm（D×H）
定時器： 最長時間：3600S
機械泵： 1L/S

電壓：-1200? DCV

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ETD-900M參數(shù)：
主機規(guī)格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）
靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au（標(biāo)配）
樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）
靶材尺寸：Ф 50mm
真空指示表： 真空度：≤ 4X10-2 mbar
離子電流表： 電流：50mA
定時器： 最長時間：0-360S ?
微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管
可通入氣體： 多種
電壓： -1600 DCV ?
機械泵：標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S（國產(chǎn) VRD-8）

ETD-800用途：

適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備。

特點：

可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銀等），以達到更細顆粒的涂層。

一鍵式操作，使用方便。

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ETD-900M用途：

適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實驗電極制作。

特點：
1、簡單、經(jīng)濟、可靠、外觀精美。
2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
4、真空保護可避免真空過低造成設(shè)備短路。
5、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。
6、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。
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