安東帕的劃痕測(cè)試儀能夠通過各種互補(bǔ)的方法表征薄膜 - 基底體系，對(duì)附著強(qiáng)度和摩擦力等參數(shù)進(jìn)行量化。這使得劃痕測(cè)試儀已成為研究、開發(fā)和質(zhì)量控制中確定涂層結(jié)合、耐劃傷性能和耐磨損性最重要的工具。
想要升級(jí)到多功能力學(xué)測(cè)試儀器？獨(dú)特的模塊化 Step 平臺(tái)可將各種壓痕測(cè)試平臺(tái)與儀器化劃痕測(cè)試平臺(tái) 、納米摩擦磨損試驗(yàn)平臺(tái) 、甚至原子力顯微鏡結(jié)合在一起。
安東帕是美國(guó)專利 8261600 和歐洲專利 2065695 的唯一持有者。劃痕實(shí)驗(yàn)后，即可采用全景成像模式以高圖像分辨率進(jìn)行記錄。全景圖像將與劃痕數(shù)據(jù)同步顯示。采用全景成像模式記錄后，可以隨時(shí)離線對(duì)測(cè)量結(jié)果進(jìn)行分析。
在劃痕前后及劃痕過程中，可以用位移傳感器測(cè)量樣品的表面輪廓（專利：US 6520004）。這樣，可以在劃痕過程中和結(jié)束之后來評(píng)估壓頭在樣品表面的劃痕深度，更加可靠地了解耐劃傷性能和耐損傷性能。
主動(dòng)力反饋系統(tǒng)確保了劃痕測(cè)試的重復(fù)性，即使研究更加復(fù)雜的表面如非平面、粗糙或曲面樣品時(shí)，也是如此。安東帕的測(cè)試儀是唯一商品化的具有主動(dòng)力反饋的系統(tǒng)。
模塊化平臺(tái)組合可提供適合各種預(yù)算和量程的理想儀器（適合微米、納米和超納米量程的專用儀器）。重點(diǎn)是，這是一款適合微米量程的優(yōu)質(zhì)且實(shí)惠的機(jī)械表面測(cè)試平臺(tái)，特別是具備高通量和快速測(cè)量能力。
劃痕測(cè)試儀的內(nèi)置顯微鏡系統(tǒng)由高質(zhì)量奧林巴斯的多倍物鏡轉(zhuǎn)塔以及 USB 照相機(jī)組成，而不是品質(zhì)較低的單倍物鏡顯微鏡。輕松轉(zhuǎn)換成像放大倍數(shù)，從而節(jié)約時(shí)間，并確保順利測(cè)試同一系列的許多不同樣品。