伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數(shù):
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型號(hào) |
RFICP140 |
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Discharge |
RFICP 射頻 |
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離子束流 |
>600 mA |
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離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
14 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
5-30 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長(zhǎng)度 |
24.6 cm |
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直徑 |
24.6 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
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實(shí)驗(yàn)室通過(guò) XRD 和 SEM 對(duì)薄膜的物相結(jié)構(gòu)和表面形貌進(jìn)行分析,通過(guò)紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)和霍爾效應(yīng)測(cè)試儀對(duì)薄膜透過(guò)率和載流子濃度、遷移率及薄膜電阻率進(jìn)行研究.
實(shí)驗(yàn)結(jié)果:
通過(guò)與未摻入 N 的 Ga 摻雜氧化鋅 (GZO) 薄膜相比, 在可見(jiàn)光區(qū), 尤其是 600~800 nm 范圍內(nèi), NGZO 薄膜平均透過(guò)率在80%以上,符合透明導(dǎo)電薄膜透過(guò)率的要求.
在 N-Ga 共摻雜薄膜中, N 的摻雜主要占據(jù) O 空位, 并吸引空位周圍的電子, 這減小了薄膜晶格畸變, 并產(chǎn)生電子空穴, 最終使得薄膜中電子載流子濃度降低, 空穴載流子濃度增加, 電阻率有所增加.
隨著氮?dú)饬髁康淖兓? 發(fā)現(xiàn)在 25 mL/min 時(shí), 薄膜具有zui佳的綜合性能. 這種薄膜可用于紫外光探測(cè)器等需較大電阻率的應(yīng)用中, 并有望實(shí)現(xiàn) n-p 型轉(zhuǎn)化.
KRI 離子源的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.
KRI 離子源是領(lǐng)域公認(rèn)的, 已獲得許多專利. KRI 離子源已應(yīng)用于許多已成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的過(guò)程中.
伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的代理商.
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