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    毛細(xì)透鏡X射線熒光鍍層測(cè)厚及材料成分分析儀
    發(fā)布者:xasktyqsb  發(fā)布時(shí)間:2022-03-29 12:23:32

    Bowman博曼X 射線熒光鍍層測(cè)厚儀器材料分析儀,獨(dú)有多
    毛細(xì)孔 
    射線光學(xué)系統(tǒng),專為測(cè)量晶圓及印制線路板上極
    微小結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。


    美國(guó)博曼(Bowman)擁有超過30年的行業(yè)經(jīng)驗(yàn),是專業(yè)的鍍層測(cè)厚儀及元素分析儀器品牌。


    O系列是毛細(xì)管機(jī)型,該機(jī)型搭載高端SDD探測(cè)器,可實(shí)現(xiàn)80um的測(cè)量斑點(diǎn)。美國(guó)博曼 O系列可在短時(shí)間內(nèi)滿足極小斑點(diǎn)的測(cè)量的同時(shí)獲取精準(zhǔn)的測(cè)量結(jié)果(準(zhǔn)確性和重復(fù)性)。

    O系列采用毛細(xì)管光學(xué)結(jié)構(gòu),擁有準(zhǔn)確的測(cè)試性能,同時(shí)能實(shí)現(xiàn)極小的X射線光斑尺寸。該系列用毛細(xì)管結(jié)構(gòu)取代了安裝在博曼標(biāo)準(zhǔn)機(jī)型中的準(zhǔn)直器組件。由于多導(dǎo)毛細(xì)管可以傳遞數(shù)百倍的能量信號(hào),可以有效提高到達(dá)樣品表面的入射X射線強(qiáng)度。O系列配備高分辨率的SDD探測(cè)器,在短時(shí)間內(nèi)捕捉并處理大量數(shù)據(jù),在短時(shí)間內(nèi)滿足極小斑點(diǎn)的測(cè)量的同時(shí)獲取準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果(準(zhǔn)確性和重復(fù)性)。


    該系列采用80μm毛細(xì)管光學(xué)結(jié)構(gòu),同時(shí)配備可處理更高計(jì)數(shù)速率的高分辨率SDD硅漂移探測(cè)器。O系列的相機(jī)具有更大的放大倍數(shù),45x視頻放大和5x數(shù)碼變焦。一個(gè)可編程的XY樣品臺(tái)也是標(biāo)準(zhǔn)配置。O系列的焦距非常小,適用于平整樣品。


    M系列是高端機(jī)型,光斑尺寸僅為15μm(FWHM),120倍放大相機(jī)用于觀察樣品上的細(xì)微特征; 同時(shí)配有低倍數(shù)相機(jī),用于觀察樣品的宏觀成像。博曼的雙攝像頭系統(tǒng)可讓操作人員看到整個(gè)樣品,點(diǎn)擊圖像,通過高倍放大相機(jī)進(jìn)行放大,實(shí)現(xiàn)測(cè)量點(diǎn)的精確定位和測(cè)量。


    可編程的XY平臺(tái),可精確定位多個(gè)測(cè)量點(diǎn);博曼專有的樣品模式識(shí)別軟件搭配自動(dòng)對(duì)焦功能可幫助客戶自動(dòng)快速完成細(xì)微樣品特征的測(cè)試。獨(dú)特的3D Mapping掃描功能可繪制出硅晶圓等部件表面的鍍層形貌。


    該系列采用15μm毛細(xì)管光學(xué)結(jié)構(gòu)和高分辨率SDD探測(cè)器,以處理更高的計(jì)數(shù)率。相機(jī)具有120x放大和更高數(shù)字變焦能力。可編程的XY樣品臺(tái)是標(biāo)準(zhǔn)配置。M系列焦距非常小,所以使用時(shí)樣品必須平整。

    W系列采用多毛細(xì)管光學(xué)機(jī)構(gòu),可將X射線聚焦到7.5μm(FWHM),是目前使用XRF技術(shù)進(jìn)行鍍層厚度分析的極小光斑尺寸。150倍放大相機(jī)用于觀察樣品上的細(xì)微特征; 同時(shí)配有低倍數(shù)相機(jī),用于觀察樣品的宏觀成像。博曼的雙攝像頭系統(tǒng)可讓操作人員看到整個(gè)樣品,點(diǎn)擊圖像,通過高倍放大相機(jī)進(jìn)行放大,實(shí)現(xiàn)測(cè)量點(diǎn)的準(zhǔn)確定位和測(cè)量。


    可編程的XY平臺(tái),精度優(yōu)于+/-1μm,可準(zhǔn)確定位多個(gè)測(cè)量點(diǎn);博曼專有的樣品模式識(shí)別軟件搭配自動(dòng)對(duì)焦功能可幫助客戶自動(dòng)快速完成細(xì)微樣品特征的測(cè)試。獨(dú)特的3D Mapping掃描功能可繪制出硅晶圓等部件表面的鍍層形貌。


    W系列儀器的標(biāo)準(zhǔn)配置包括7.5μm鉬靶光學(xué)結(jié)構(gòu)(可選鉻和鎢)和高分辨率、大窗口硅漂移探測(cè)器,該探測(cè)器每秒可處理超過2百萬(wàn)次計(jì)數(shù)。硅漂移探測(cè)器應(yīng)用行業(yè)廣泛,是測(cè)量復(fù)雜鍍層的標(biāo)準(zhǔn)配置。高計(jì)數(shù)率能力是實(shí)現(xiàn)低檢測(cè)下限和高光譜分辨率的關(guān)鍵。





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