新聞:石膏泵機(jī)械密封LCF150/400II LCF200/410II生產(chǎn)廠家
自貢市川密機(jī)械密封件有限公司專業(yè)設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷售配套襄陽(yáng)五二五LC/LCF耐磨耐腐蝕泵HTM/HRM/HR325/HMR3C/LB型機(jī)械密封
機(jī)械密封分為單端面集裝式和雙端面集裝式
單端面集裝式：只有1對(duì)密封結(jié)合面，出廠時(shí)由密封廠家預(yù)先組裝好，無(wú)需客戶調(diào)整，直接裝配就好。安裝方便，使用簡(jiǎn)單。冷卻水壓力控制為0.05-0.1MPa之間
單端面同時(shí)又分為內(nèi)裝式（整個(gè)密封含大法蘭全部浸泡在漿液里，其裝配方法從葉輪端往電機(jī)端裝配）和外裝式（整個(gè)密封少量部分浸泡在漿液里，其裝配方法從電機(jī)端往葉輪端裝配）
雙端面集裝式：由有2對(duì)密封結(jié)合面，出廠時(shí)由密封廠家預(yù)先組裝好，無(wú)需客戶調(diào)整，直接裝配就好。安裝方便，使用簡(jiǎn)單。冷卻水壓力控制為0.05-0.1MPa之間
雙端面一般指外裝式雙端面，其是單端面外裝式的派生型（把單端面封水側(cè)骨架油封改為一套串聯(lián)式機(jī)械密封），目的提高使用壽命
適用介質(zhì)：
含石膏、石灰漿液等雜質(zhì)含量較高的介質(zhì)。
工作參數(shù)：
固定物含量：≤30%
溫 度：≤120℃
壓 力：≤1.6MPa
軸 徑：≤250mm
主要應(yīng)用：
機(jī)械密封主要用于燃煤發(fā)電煙氣脫硫上，適用于吸收塔漿液循環(huán)泵、石膏漿液泵、石灰石漿液泵、石膏排出泵。
常見泵號(hào)如下：
LCF40/250I LCF40/350I LCF40/400I LCF40/450I LCF50/350N2 LCF50/400I LCF50/460I LCF65/310I LCF65/315I LCF65/350I LCF65/400I LCF80/400I LCF80/450I LCF100/300 LCF100/320I LCF100/350I LCF100/420I LCF125/405I LCF150/300I LCF150/350I LCF200/300I LCF100/500T LCF150/400I LCF200/410I LCF250/430I LCF250/430I LC300/500I LC300/530I LC300/400I LC300/635I
LC300/630I LC350/500I LC350/560I LC400/500I LC400/540I LC450/635I LC500/630I LC550/700I LC550/710I LC550/750I LC600/825I LC700/900I LC700/898I LC800/1000I LC900/1150I
LC500/630II LC550/700II LC550/710II LC550/750II LC600/825II LC700/900II LC700/898II LC800/1000II LC900/1150II
密封型號(hào)：
HTM-30S251Z HTM-30S351X HTM-30S220Z HTM-30S220Q
HTM-30D251ZZ HTM-30D351XX
HTM-40S251Z HTM-40S351X HTM-40S220Z HTM-40S220Q
HTM-40D251ZZ HTM-40D351XX
HTM-55S251Z HTM-55S351X HTM-55S220Z HTM-55S220Q
HTM-55D251ZZ HTM-55D351XX
HTM-60S251Z HTM-60S351X HTM-60S220Z HTM-60S220Q
HTM-60D251ZZ HTM-60D351XX
HTM-80S251Z HTM-80S351X HTM-80S220Z HTM-80S220Q
HTM-80D251ZZ HTM-80D351XX
LB-LK7-120S LB-LK7-120D LB-LK6-115S LB-LK6-115D
HTM-30S HTM-40S HTM-55S HTM-60S HTM-80S
HTM-30D HTM-40D HTM-55D HTM-60D HTM-80D
HR3-125 HR3-142 HR3-158 HR3-175 HR3-198
HR325/230 HR325/210 HR325/190 HR325/170
HRM-125D3 HRM-142D3 HRM-158D3 HRM-175D3 HRM-198D3
HRM-125S3 HRM-142S3 HRM-158S3 HRM-175S3 HRM-198S3
HMR3C-125 HMR3C-142 HMR3C-158 HMR3C-175 HMR3C-198
AMC對(duì)當(dāng)前的IC生產(chǎn)其潛在的污染比粒子污染要廣泛多，粒子污染控制只要確定粒徑及個(gè)數(shù)，但對(duì)AMC控制而言，除了受芯片線寬的縮小而變化外，并受工藝、工藝設(shè)備、工藝材料及園片傳送系統(tǒng)等的影響，更有甚者用于某一工序的各種工藝材料(化學(xué)品、特種氣體等)在很多情況下其微量的分子對(duì)下一工序往往可能是污染物，而園片加工工序當(dāng)前已多于3多個(gè)獨(dú)立工序，對(duì)AMC控制指標(biāo)的確定更是復(fù)雜。IC生產(chǎn)對(duì)AMC的控制，對(duì)不同的產(chǎn)品、不同的工藝、不同的工序及不同的工藝材料會(huì)有不同的要求，對(duì)各種污染物質(zhì)的要求當(dāng)前總的說(shuō)法是控制在亞pptm～1pptm間。
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